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HANNOVER MESSE 2018, 23. - 27. April
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Mikrowellenplasmaquelle MIRO-200-CI

Logo Mikrowellenplasmaquelle MIRO-200-CI

Messestand
Thema: Gemeinschaftsstand Plasma- und Laser- Oberflächentechnik

Ansprech­partner
Herr Dipl-Phys Rolf Schäfer
Eigentümer
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Produktbeschreibung

Unsere neue Mikrowellenplasmaquelle mit parabolischem Reflektor ermöglicht die Abscheidung von Verschleißschutz- und optischen Schichten wie a:C-H, SiO2, Al2O3 mit sehr hohen Beschichtungsraten bis zu 36µm/h. Die Quelle arbeitet bei Druckbereichen die kompatibel sind zu PVD-Prozessen wie Sputtern und Arc-Abscheidung. Dies erlaubt die Abscheidung von PECVD/PVD-Hybridschichten mit neuartigen Eigenschaften.

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Mikrowellenplasmaquelle MIRO-200-CI

Unsere neue Mikrowellenplasmaquelle mit parabolischem Reflektor ermöglicht die Abscheidung von Verschleißschutz- und optischen Schichten wie a:C-H, SiO2, Al2O3 mit sehr hohen Beschichtungsraten bis zu 36µm/h. Die Quelle arbeitet bei Druckbereichen die kompatibel sind zu PVD-Prozessen wie Sputtern und ...weiterlesen

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